クラスターイオンビームの開発とその利用

齋藤 勇一; 田島 訓; 水橋 清; 神谷 富裕; 酒井 卓郎; 内藤 豊*

第11回タンデム加速器及びその周辺技術の研究会報告集, p.65 - 68, 1999/01

MeV分子・クラスターイオンビームは照射ターゲットに与える影響が非線形効果のため通常の単原子イオンビームと異なることが予想される。我々はCイオンの生成・加速に着手した。その結果、Cをスパッター型負イオン源で生成すると短時間でビーム電流が減少するとされていたが、これをスパッターカソードの作製時の圧力及びイオン源作動パラメータの最適化により安定に生成することに成功した。これまでのところ、Cイオンはタンデム加速器低エネルギーライン末端まで輸送されている。また、C~Cについて、C.E.I.による構造の観測を行った。観測手段としてこれまでCR39上の痕跡を利用していたが、新たに蛍光体付MCPとビデオカメラを用いてリアルタイム計測を可能とした。